GIF Continuum K3 系统

电子计数模式下的 EELS、EFTEM 和能量过滤 4D STEM

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优点: 

GIF Continuum®K3® 系列产品运用革命性的K3直接探测电子计数相机,能够获取超高质量的电子能量损失谱(EELS)和能量过滤透射电子显微术(EFTEM)数据。在DigitalMicrograph® 和 AutoFilter® 软件平台驱动下,GIF Continuum K3在易于操作的同时不必牺牲现代实验中的其它能力与实验的灵活性。K3能够与选配的闪烁体相机或者 Stela™ 混合像素相机配合使用,带来更多样的功能组合。

低剂量成像应用的理想选择,电子计数EELS模式下的优异谱学性能

  • K3 相机的高灵敏度和高像素数量适合于低剂量成像和原位研究
  • 在低信号强度下解析高质量的原子级结构 (80 – 300 kV)
  • 在更大能量范围上记录更锐利的能损吸收边
  • DualEELS™ 帮助采集现代 EELS 定量分析中关键的低能损失和芯损失信号

Stela 扩展电子计数至低电压

  • 将电子计数EELS 和 EFTEM 能力扩展至 80 kV以下
  • 为能量过滤衍射、micro-ED以及4D STEM应用优化
  • 以高动态范围同时采集强弱反射

不负期望的高效率及完整的 DigitalMicrograph 一体化

  • 在所有探测器上一键实现光路调整和对中
  • 灵活且直观的 STEM-EELS 谱成像设置与实时面分布
  • 一站式 TEM/STEM 应用分析平台,节省培训时间与成本
  • 强大的多维度数据分析和可视化工具使用户能够轻松实现对复杂数据集的深入研究和挖掘
  • DigitalMicrograph® 脚本与 Python 编程的原生支持,实现定制化的分析功能

出版物

ACS Nano
2023

Mun, J.; Sushko, P. V.; Brass, E.; Zhou, C.; Kisslinger, K.; Qu, X.; Liu, M.; Zhu, Y.

Electrochimica Acta
2023

Zachman, M. J.; Serov. A.; Lyu, X.; McKinney, S.; Yu, H.; Oxley, M. P.; Spillane, L.; Holby, E. F.; Cullen, D. A.

arXiv
2022

Munshi, J.; Rakowski, A.; Savitzky, B. H.; Zeltmann, S. E.; Ciston, J.; Henderson, M.; Cholia, S.; Minor, A. M.; Chan, M. K. Y.; Ophus, C.

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