概述:
能量过滤透射电子显微术 (EFTEM) 是一系列成像技术,利用能量损失光谱的特性来增强对比度、消除色差效应并在图像中创建独特的对比效果。主要的应用包括:
- 对比增强 – 去除导致背景雾化的非弹性散射电子,从而改善图像和衍射图的对比度
- 包括零损失滤波、最可能损失成像、对比调节和前碳成像
- 映射 – 通过用非弹性散射电子形成图像来创建纳米级分辨率的元素/化学图
- 包括 2 窗口和 3 窗口元素映射/跃变比成像和化学成像 – 提供精细的结构成像
- 分析 – 记录和量化电子能量损失谱(和图),从而提供 TEM 样品的化学分析
EFTEM 的基本原则是,用高能量电子束照射极薄的样品。当大部分电子无阻碍地通过样品时,部分电子会与样品相互作用,并导致弹性或非弹性散射。非弹性散射会同时导致能量损失和动量改变,这在内壳层电离的情况下是样品中的元素特征。
应用
High-speed composition and chemical analysis of Si/STO/PZT with GIF Continuum |
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使用 GIF Quantum® 系统,快速同时从包含重金属 Au 和 Pd 的催化剂粒子中获取 EELS 光谱中的低损耗和铁芯损耗区域 |
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海报
对基于 Pd-Au 的催化剂的快速 STEM EELS 光谱成像分析
使用 EELS 进行生物材料的定量研究
以 DualEELS 模式进行高阻抗金属合金的高速成分分析
使用 DualEELS 模式中高能量边缘的快速原子级 EELS 映射分析
对 III-V MOSFET 高介电系数叠层栅介质中的接触面进行原子解析 EELS 分析